年6月30日，中国光学光电子行业协会液晶分会联合中国光学光电子行业协会发光二极管显示应用峰会及CINNO联合主办的以“跨界融合·创新发展”为主题的首届“国际Mini/MicroLED供应链创新发展峰会”。围绕供应链发展中所面临的机遇和挑战，探讨如何通过产业链的上下游协作谋篇布局，为产业未来的发展提供可参考的思考。
主持人：CINNOResearch创始人CEO陈丽雅
嘉宾致辞
大会首先由主办方中国光学光电子行业协会液晶分会常务副秘书长胡春明发表致辞。“近年来随着显示技术不断升级和迭代，芯片尺寸不断缩小，产品产生的技术路线不断演进，尤其在有缘矩阵的加持下，Mini/MicroLED迸发成更大的活力，当前Mini/MicroLED技术已经开始成熟并进入商用化，各类厂商也积极布局MicroLED产业链。”
中国光学光电子行业协会液晶分会常务副秘书长胡春明
随后，中国光学光电子行业协会秘书长姚大虎为大会致辞。“在MicroLED大规模量产之前还有工艺技术中的各种瓶颈有待克服，需要LED供应链上各环节的企业一起戮力同心，共同解决问题。”近年来全球经历了新冠疫情及中美贸易战的影响，供应链全球化发展遭遇打击，各国家和地区纷纷将供应链安全列入发展重点，在全球显示及半导体产业进入转型升级的关键时期，中国大陆显示和半导体供应链也迎来了全新的发展机遇。中国本土的产业链上游材料和装备企业应更紧密合作，强化产业链协同创新，突破关键技术核心，加快推进技术产品应用，推动中国显示及半导体产业的快速发展，赢得国际市场话语权。
中国光学光电子行业协会秘书长姚大虎
中国科学院院士郑有炓也通过视频为大会致辞。“5G新技术的发展，信息显示成为5G信息技术生态不可或缺的重要环节。显示进入多元化应用的新时期，MicroLED作为最具现实的显示技术，无论在AR、VR领域还是在超大尺寸应用上，都受到行业的瞩目。MicroLED技术研发领域我们也取得了一些成绩。”
中国光学光电子行业协会发布九项LED团体标准
本次论坛上，中国光学光电子行业协会隆重发布九项团体标准。这九项标准从封装，整机，系统，细分应用等相应领域规定了术语和定义、产品标识、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存及质量承诺等。技术内容完整，技术架构科学合理，对行业的发展有重要的规范作用，同时符合团体标准的制定程序，编写符合GB/T1.1的规定，标准送审稿及编制说明材料齐全，满足标准项目任务书的要求。
中国光学光电子行业协会LED显示应用分会副秘书长蔡广超
《室内COB小/微小间距LED显示屏通用技术规范》《异步无灰度LED显示屏控制器（卡）通用技术要求》《户内LED云屏P2.5/P1.9通用技术要求》室内小间距/Mini全彩色LED显示屏用发光二极管表贴产品（SMD）系列型谱》《室内LED一体机通用技术规范》《异步LED显示屏播放器通用技术要求》《球场周边LED显示屏》《室内小间距/MiniLED显示屏规范》《LED显示屏术语和定义》
LED行业标准发布
未来，中国光学电子行业协会欢迎行业企业、高校、研究机构以及其他领域专业的行业协会联合开展标准编制工作。全国电子显示器件标准化委员会委员、中国光学光电子行业协会发光二极管显示应用分会秘书长洪震；中国光学光电子行业协会液晶分会常务副秘书长胡春明；晶能光电总经理梁伏波先生；南京大学电子科学与工程学院院长刘斌先生；南昌大学赣江杰出教授博士生导师王立先生；中国光学光电子行业协会发光二极管显示应用分会副秘书长蔡广超先生；重庆康佳光电技术研究院副总经理张玮先生，参与行业标准启动仪式。
主题演讲
演讲主题：《LED硅基氮化镓红光LED进展》
演讲嘉宾：南昌大学赣江杰出教授、博士生导师王立博士
演讲概要：
南昌大学江风益团队王立教授指出MicroLED的两大瓶颈问题：巨量转移及红光LED问题。MicroLED尺寸越小，器件发光效率越低。王立教授介绍了南昌大学在硅基GaN红光LED技术方面最新的研究进展。针对红光问题，江风益团队的硅基氮化镓技术，引入了铟镓氮红光量子阱与黄光量子阱交替生长方法，并结合V形坑技术，从而大幅缓解了红光量子阱中高In组分偏析问题。再依据V形p-n结和量子阱带隙工程大幅提升了红光量子阱中的辐射复合速率，大幅提高了LED芯片的光通量维持效率。
演讲主题：《高密度像素Micro-LED制备与量子点色转换RGB全彩化》
演讲嘉宾：南京大学电子科学与工程学院院长刘斌
演讲概要：
刘斌教授的演讲报告面向高分辨率MicroLED的RGB显示，研发了基于微纳半导体制备技术的量子点与氮化镓量子阱集成结构，通过半导体光刻图形与量子点涂敷工艺，避免了巨量转移的难题，为MicroLED的全彩化显示提供新技术路径。
演讲主题：《Mini/MicroLED显示技术发展与未来》
演讲嘉宾：重庆康佳光电技术研究院副总经理张玮
演讲概要：
Micro-LED新型显示技术，该技术是一种新型的由微米级半导体发光单元组成的阵列显示技术，是新兴显示技术与半导体LED芯片技术二者复合集成的综合性技术，具有自发光、高对比、高效率、低功耗、高集成、高稳定性、全天候工作等优点，未来发展潜力巨大。
康佳通过对Micro-LED显示的核心技术突破与升级,以强化“先进的基础工艺、关键的技术材料和扎实的产业基础”为目标，与业内同行携手合作，期盼有效解决技术“卡脖子”问题,促进中国大陆真正掌握新型半导体显示产业的核心专利、核心技术和行业话语权。
主持人：中国光学光电子行业协会LED显示应用分会秘书长洪震
演讲主题：《玻璃基AMLED显示应用》
演讲嘉宾：合肥京东方星宇科技有限公司总经理张培林
演讲概要：
京东方拥有先进的玻璃基半导体工艺技术和Hz高精度转印技术，具备面板、模组、箱体到整机全套的解决能力，同时，产品线上也进行了全方位布局，具备LED显示和LCD拼接等全系列商显的解决方案。我们愿意与全球伙伴合作，为客户提供最具竞争力的一站式解决方案的服务。
演讲主题：《利用流体自组装来实现低成本μLED显示屏》
演讲嘉宾：eLuxInc.FounderCEO李宗霑
演讲概要：
eLux独有的流体自组装（FSA）技术与LED制程中使用的传统的巨量转移技术相比有几个显著的优势：1、大规模并行装配可以实现每小时百万级以上的LED芯片转移效率，使用简单的设备和组装即可将制备的基板尺寸扩大到第6代；2、检查和筛选技术可防止缺陷LED芯片进入组装程序；3、流体自组装技术可防止epi晶圆不均匀造成的马赛克图案。此次IMDS论坛上，李博士将具体介绍流体自组装转移技术的研发进展和eLux取得的成果。
演讲主题：《MicroLED显示技术的机遇与挑战》
演讲嘉宾：成都辰显光电总经理助理王程功博士
演讲概要：
在过去的十五年间，越来越多的公司投入到MicroLED技术的研发中。成都辰显光电从年开始了MicroLED技术的研发工作，经过3年多的积累，我们从年Q3开始MicroLED中试线的建设。虽然MicroLED技术相对于现有的显示技术有许多优势，但是MicroLED技术的量产还有这非常大的挑战。我们在驱动，巨量转移等方向做了一些探索性的工作，期待能够推动MicroLED技术早日量产。
演讲主题：《垂直芯片渗入Mini直显，CSP挑战Mini背光》
演讲嘉宾：晶能光电总经理梁伏波
演讲概要：
晶能光电成立于年2月，是专注于LED照明、微显示和第三代半导体应用的GaN技术和器件开发与生产的高科技企业。公司在硅衬底GaN技术领域已耕耘近二十载，在全球率先实现硅衬底GaN技术在LED领域的产业化和市场应用，开创了全球第三条蓝光LED技术路线，在全球申请或拥有多项专利，其中硅衬底GaN基蓝光LED技术获得年度国家技术发明奖一等奖。在此基础上，公司开发了硅衬底GaN基垂直结构蓝绿光miniLED芯片产品。
针对miniLED应用的高清直显和背光两大市场，梁总阐述了全垂直LEDRGBmini高清显示屏方案的优势和运用CSP方案的mini背光技术解析。
演讲主题：《MiniLED背光封装路线展望》
演讲嘉宾：东山精密LED封装研究院院长许斌
演讲概要：
从年到年，MiniMicroLED的崛起，技术变更迭代，东山精密看到了未来的机遇和挑战。特别是MiniLED背光技术具有轻薄、高画质、高分辨率、低功耗等优势，备受各界瞩目，东山精密作为漫天星方案的初创者，积累了11年的背光研发、设计、生产经验，针对现在的MiniLED背光提出来全方面的解决方案。
演讲主题：《量子点在MiniLED和MicroLED显示中的应用》
演讲嘉宾：Nanosys.Inc大中华区总经理罗中升
演讲概要：
制造能够带来终极视觉体验的显示产品一直以来是显示行业的梦想。实现这种体验的关键是能够在清晰度，高动态范围（HDR）以及颜色方面都达到特定的水平。量子点作为人类有史以来最理想的一种发光材料，跟现有的显示技术相结合，不仅可以实现终极的视觉体验，同时也可以降低生产成本以及帮助改进显示产品的其他关键特性，比如超薄的外形，低功耗等等。本次报告就量子点如何在MiniLED和MicroLED显示中实现上述的突破进行介绍和探讨。
演讲主题：《先进MOCVD设备助力Mini/MicroLED技术商用化》
演讲嘉宾：中微半导体副总裁兼MOCVD产品事业部总经理郭世平
演讲概要：
近年来，Miniled和Microled以其高动态范围、高环境对比度、薄型、低功耗等优点，在先进的显示领域受到了广泛的
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